惯性传感器、温度传感器通常要进行真空密封;而对于压力传感器、气体传感器、湿度传感器则要采用开腔式封装。()
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曝光部分被溶解的光刻胶是()
A. 正胶
B. 负胶
C. 正胶或者负胶
微加工中光刻的目的一般是()
A. 对MEMS器件照相
B. 转移光刻掩膜板上的图形
C. 获得微比例的图片
下列各项中,属于光刻工艺需要满足的要求的有()
A. 图形分辨率的要求
B. 图形转移精度的要求
C. 光刻胶作为掩膜或模具的性能要求
课程中讲到光刻工艺有三个要素,它们分别是()
A. 光刻胶
B. 光刻掩膜板
C. 光刻机
D. 硅片