题目内容

在硅的同质外延中，外延层中杂质来源很多，下列哪些属于自掺杂（）

A. N(衬底)
B. N(气)
C. N(邻片)
D. N(扩散)

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硅烷法优点有哪些（）

A. 除硼效果好；（硼以复盐形式留在液相中）
B. 无腐蚀，降低污染；（无卤素及卤化氢产生）
C. 无需还原剂，分解效率高
D. 安全

晶核长大的动力学模型有（）

A. 完整突变光滑面生长模型
B. 非完整突变光滑面生长模型
C. 杰克逊模型
D. 布赖斯模型

单晶态半导体的结构特征是（）

A. 长程有序短程有序
B. 长程无序短程有序
C. 长程无序短程无序

硅片化学清洗中的一号洗液主要用于去除有机物，其主要化学成分是（）

A. H2SO4/ H2O2/ H2O
B. HCl/ H2O2/ H2O
C. NH3.H2O/ H2O2/ H2O