题目内容

以下曝光方式中,可以缩小成像的是()

A. 接触式曝光
B. 接近式曝光
C. 投影式曝光

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N型硅可以通过掺杂()得到

A. 硼原子
B. 磷原子
C. 以上两者之一

PECVD之所以很常用,是因为它提供了()

A. 好的附着力
B. 一个简单的过程
C. 比较低的操作温度

对材料的选择性越高,作为刻蚀剂的能力就()

A. 越好
B. 越差
C. 不好也不差

DRIE代表()

A. 干法腐蚀
B. 干法反应离子刻蚀
C. 反应离子深刻蚀