金属和P型半导体接触时,当金属功函数大于半导体功函数,理想情况下会形成()。
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已知Al的功函数为4.05 eV,N型硅的功函数为4.85 eV,理想情况下,Al和N型硅的金半接触是()。
A. 肖特基接触
B. 欧姆接触
肖特基二极管和PN结二极管具有类似的电流电压特性曲线,区别在于肖特基二极管开启电压相对较()。
A. 大
B. 小
两个半导体材料GaN和AlGaN相接触,形成()。
A. PN结
B. 异质结
C. 异质PN结
MBE系统中最重要的原位分析工具()可以观察单晶表面形貌、晶体结晶性和表面再构,并可以精确测定材料的生长速率。
A. EL
B. RHEED
C. 四极质谱仪
D. 光学生长进程仪
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