关于平面说法,错误的是()
A. 平面的前部位于上唇下缘下方2mm处
B. 平面在前方应与瞳孔连线平行
C. 平面在侧方应与鼻翼耳屏线平行
D. 平面应与地面平行
E. 下颌平面位于舌侧外缘最突出处
选磨的目的是()
A. 消除正中早接触
B. 消除侧向干扰
C. 消除前伸干扰
D. 降低垂直距离
E. 达到平衡
形成Na+、K+在细胞内外不均衡分布的主要原因是()
A. 安静时K比Na更易透过细胞膜
B. 兴奋时Na比K更易透过细胞膜
C. K的不断外流和Na的不断内流
D. 膜两侧无离子交换
E. 膜上Na-K依赖式ATP酶的活动
牙列缺失修复时,后牙力主要集中在()
A. 第一、第二磨牙区
B. 前磨牙区
C. 第二前磨牙和第一磨牙区
D. 尖牙和第一前磨牙区
E. 所有后牙均衡受力