选磨的目的是（）
A. 消除正中早接触
B. 消除侧向干扰
C. 消除前伸干扰
D. 降低垂直距离
E. 达到平衡
形成Na+、K+在细胞内外不均衡分布的主要原因是（）
A. 安静时K比Na更易透过细胞膜
B. 兴奋时Na比K更易透过细胞膜
C. K的不断外流和Na的不断内流
D. 膜两侧无离子交换
E. 膜上Na-K依赖式ATP酶的活动
牙列缺失修复时，后牙力主要集中在（）
A. 第一、第二磨牙区
B. 前磨牙区
C. 第二前磨牙和第一磨牙区
D. 尖牙和第一前磨牙区
E. 所有后牙均衡受力
下面哪一项不符合全口义齿的排牙要求（）
A. 人工牙尽可能排在牙槽嵴顶
B. 按一定规律排列，形成合适的补偿曲线、横曲线
C. 为确保美观，必要时前牙可排成深覆
D. 人工牙应排在原来自然牙所在的部位
E. 要达到平衡
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