题目内容

选磨的目的是（）

A. 消除正中早接触
B. 消除侧向干扰
C. 消除前伸干扰
D. 降低垂直距离
E. 达到平衡

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形成Na+、K+在细胞内外不均衡分布的主要原因是（）

A. 安静时K比Na更易透过细胞膜
B. 兴奋时Na比K更易透过细胞膜
C. K的不断外流和Na的不断内流
D. 膜两侧无离子交换
E. 膜上Na-K依赖式ATP酶的活动

牙列缺失修复时，后牙力主要集中在（）

A. 第一、第二磨牙区
B. 前磨牙区
C. 第二前磨牙和第一磨牙区
D. 尖牙和第一前磨牙区
E. 所有后牙均衡受力

下面哪一项不符合全口义齿的排牙要求（）

A. 人工牙尽可能排在牙槽嵴顶
B. 按一定规律排列，形成合适的补偿曲线、横曲线
C. 为确保美观，必要时前牙可排成深覆
D. 人工牙应排在原来自然牙所在的部位
E. 要达到平衡

前牙排列时首选（）

A. 正常的覆、覆盖关系
B. 浅覆、浅覆盖
C. 浅覆、深覆盖
D. 深覆、浅覆盖
E. 深覆、深覆盖