硅是良好的半导体材料,但是自然界没有单质硅存在。工业上,在高温下用焦炭还原SiO2方法可制得含少量杂质的粗硅。将粗硅在高温下跟氯化氢气反应生成三氯氢硅,三氯氢硅经分馏提纯后,再用氢气还原得纯硅。写出制粗硅的方法和制得纯硅的所有化学方式:______ 、 ______ 、 ______
查看答案
CZ法工艺过程一般由烤晶、______ 、______ 、______ 、______ 、收尾组成。
气—固相转变的热力学条件是: ______ ;熔—固相转变的热力学条件是: ______ 。
当△T=TL-Tm <0(TL体系平衡熔点;Tm纯组分熔点), CS<CL, K0 ______ 1,提纯时杂质向 ______ 集中;当△T=TL-Tm >0, CS >CL, K0 ______ 1,提纯时杂质向 ______ 集中。
SC-1清洗液(APM)由 ______ 、 ______ 、 ______ 化学试剂组成。