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直流辉光放电时，负辉光区的大部分分子状态处于 ( )

A．基态
B．激发态
C．离子态

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溅射镀膜时，下列哪个放电区是溅射区域( )

A．正常辉光放电区
B．异常辉光放电区
C．汤森放电区

测量同一种薄膜时，下列哪种膜厚测量值最大( )

A．形状膜厚dT
B．质量膜厚dM
C．物性膜厚dP

反应蒸发时，蒸发原子或低价化合物分子与活性气体发生反应的地方在( )

A．蒸发源表面
B．蒸发源到基板的空间
C．基板表面

当合金中元素的蒸发速率相差很大时，制作这种合金薄膜可采用( )

A．同时蒸发法
B．瞬时蒸发法
C．多源蒸发