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《论词随笔》的作者是______
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某电子元件厂拟建构件表面处理工程，年处理电子元件144万件。厂房高12m，废气处理设施的排气筒均设置在厂房外侧。年工作日300d，每天8h。 生产过程产生的硫酸雾浓度为200mg/m3，经处理后外排，排气筒高度20m，排气量30000m3/h，排气浓度45mg/m3。喷涂和烘干产生的二甲苯有机废气经吸收过滤后外排，二甲苯产生量5g/件(产品)，净化效率为80%，经15m高排气筒排放，排气量9375m3/h。 生产过程产生的废水有化学镀镍废水，涂装车间含六价铬、镍废水，电镀车间含六价铬、镍和磷酸盐废水。 生产过程中产生的废漆渣拟送该厂现在锅炉焚烧，废切削液由厂家回收，含铬镍废液送水泥厂焚烧，生活垃圾集中送市政垃圾填埋场处置。 (注：二甲苯排气筒高度15m，《大气污染物综合排放标准》规定最高允许排放速率为1.0kg/h，最高允许排放浓度为70mg/m3。) 从环境保护角度来看，本项目还需在厂内建设什么设施
The candidates of the PhD in the field of science and engineering is facing a competition from ______.
According to the passage, what do people often think about astronomers
某公司拟在工业园区建设一电子元器件生产企业A厂。由于元器件生产以硅片为基材，经氨水清洗、氢氟酸/磷酸蚀刻、砷化氢掺杂、硫酸铜化学镀等工序得到产品。其中掺杂工序和化学镀工序流程见下图。 掺杂工序和化学镀工序流程 生产过程中产生的清洁下水、蚀刻废水、尾气洗涤塔废水、化学镀废水经预处理后进最终中和池，最终中和池出水排入园区污水处理厂。废水预处理后的情况见下表。园区污水处理厂处理能力为5.0万m3/d，目前实际处理量为3.3万m3/d，接管水质要求为COD 350mg/L，NH3-N 25mg/L，TP 8mg/L，其他指标需达到GB 8978—1996表1及表4三级排放标准(氟化物20mg/L，Cu 2.0mg/L，As 0.5mg/L)。氨水清洗工序产生的清洗废水中氨含量为0.02%，为降低废水中氨浓度，拟采取热交换吹脱法除氨，氨的吹脱效率为80%，吹脱出的氨经15m高排气筒排放(GB 14554—93规定，15m高排气筒氨排放量限值为4.9kg/h)。 废水预处理情况一览废水预处理方法排放规律水量/(m3/d))出水水质/(mg/L)CODNH3-NTPFAsCu清洗废水吹脱法连续120015040 蚀刻废水絮凝沉淀法连续36001505208 尾气洗涤塔废水絮凝沉淀法连续120200 1.0 化学镀废水絮凝沉淀法连续36050 5.0 列出5种凝沉淀法常用的化学药剂。
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