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常温下，下列材料中禁带宽度最大的是（）

A. Si
B. GaAs
C. GaN

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在下面的材料中，哪个材料属于间接带隙的半导体材料（）

A. InP
B. GaAs
C. GaP

使用有机溶剂清洗硅片的正确操作顺序是（）

A. ①甲苯②丙酮③乙醇④纯水
B. ①乙醇②丙酮③甲苯④纯水
C. ①甲苯②乙醇③丙酮④纯水

硅片化学清洗中的二号洗液主要用于去除金属杂质，其主要化学成分是（）

A. H2SO4/ H2O2/ H2O
B. HCl/ H2O2/ H2O
C. NH3.H2O/ H2O2/ H2O

在直拉法中掺入杂质时，对于不易挥发的杂质如硼，可采用的掺杂方法是（）

A. 投杂法
B. 共熔法
C. 中子嬗变法