题目内容

硅片化学清洗中的二号洗液主要用于去除金属杂质，其主要化学成分是（）

A. H2SO4/ H2O2/ H2O
B. HCl/ H2O2/ H2O
C. NH3.H2O/ H2O2/ H2O

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在直拉法中掺入杂质时，对于不易挥发的杂质如硼，可采用的掺杂方法是（）

A. 投杂法
B. 共熔法
C. 中子嬗变法

在非均匀成核中，当晶核与固相平面的接触角0

A. △G 非均＝0，不需要三维成核，流体可直接转变为晶体
B. △G非均

均匀成核时，当晶肧半径0

A. 消失几率>长大几率
B. 消失几率=长大几率
C. 消失几率

Ⅱ族元素的杂质在Ⅲ-Ⅴ族化合物中属于下列哪种掺杂情况（）

A. 浅受主
B. 浅施主
C. 两性掺杂