题目内容

微波反应的影响因素有哪些?()

A. 溶剂,底物,催化剂,以及反应体系中各种物质的比例等。
B. 搅拌强度,是否预搅拌,气体保护,气体添加等
C. 反应的温度,反应的时间
D. 微波的利用率

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下面关于CVD的描述正确的是()

A. 全称为化学气相沉积
B. 尤其适合制备薄膜
C. 反应原料必须为气态
D. 对设备要求很高
E. 工艺成本高

利用等离子体来增强CVD过程的目的包括()

A. 加快反应速度
B. 改变沉积物的品种和晶体结构
C. 降低反应温度
D. 增强涂层结合力

普通CVD法的基本装置包括以下部件()

A. 气源控制部件
B. 沉积反应室
C. 温控部件
D. 真空和压强控制部件
E. 激励能源控制部件

CVD法的典型应用场景包括()

A. 芯片生产
B. 太阳能电池
C. 光催化剂
D. 电催化电极
E. 玻璃
F. 陶瓷
G. 耐磨耐腐蚀涂层