题目内容

下面关于CVD的描述正确的是()

A. 全称为化学气相沉积
B. 尤其适合制备薄膜
C. 反应原料必须为气态
D. 对设备要求很高
E. 工艺成本高

查看答案

搜索结果不匹配？点我反馈

更多问题

利用等离子体来增强CVD过程的目的包括()

A. 加快反应速度
B. 改变沉积物的品种和晶体结构
C. 降低反应温度
D. 增强涂层结合力

普通CVD法的基本装置包括以下部件()

A. 气源控制部件
B. 沉积反应室
C. 温控部件
D. 真空和压强控制部件
E. 激励能源控制部件

CVD法的典型应用场景包括()

A. 芯片生产
B. 太阳能电池
C. 光催化剂
D. 电催化电极
E. 玻璃
F. 陶瓷
G. 耐磨耐腐蚀涂层

下面关于氯碱工业的说法正确的是()

A. 阴阳极产物均为重要化工原料
B. 技术关键为两极产物的分隔
C. 隔膜电解法和水银电解法已是过时技术
D. 水分子不可以自由穿过离子膜