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机器与机构的本质区别是什么?____

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机器或机构各部分之间应具有____。机器工作时,都能完成有用的____或实现____。

在平面机构中若引入一个高副将引入____个约束,而引入一个低副将引入____个约束,构件数、约束数与机构自由度的关系是 F=3n-2PI-Ph 。

在平面机构中,具有两个约束的运动副是____,具有一个约束的运动副是____。

计算平面机构自由度的公式为F=F=3n-2PL-Ph,应用此公式时应注意判断____,____,____。

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