题目内容

有限表面源扩散与离子注入的杂质分布都满足高斯函数，两种掺杂工艺杂质最高浓度位置都在硅片表面。

A. 对
B. 错

查看答案

搜索结果不匹配？点我反馈

更多问题

化工生产过程是由原料的预处理、（）和反应产物加工这三个基本步骤构成的。

双杠分腿坐前进的动作方法是：由分腿坐开始，两手推离杠，随后于体前握杠，身体重心前移，同时两腿伸压杠弹起后摆并腿进杠……

A. 对
B. 错

种子等繁殖材料过境要进行（）。

纯碱或苏打的主要成分是（）