题目内容

显影工艺的主要目的是（）

A. 去除全部光刻胶，产生ITO图形影像
B. 去除已反应的光刻胶，产生可见影像
C. 去除已腐蚀的ITO，产生可见影像
D. 去除光刻掩模板，产生光刻胶图形影像

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