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二次电子形貌衬度的最大用途是观察断口形貌。

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二次电子可从样品表面层20-50nm深度范围内被入射电子束激发出来。

扫描电子显微镜由电子光学系统，信号收集处理、图像显示和记录系统两个基本部分组成。

样品在电子束的轰击下会产生的信号有：背散射电子、二次电子、吸收电子、透射电子、特征X射线、俄歇电子等。

在单晶体标准投影图中，极点处于同一个大圆弧上的晶面属于同一个晶带。